土壤成分分析儀一旦試樣已被抽空，它可以通過閥（4）被連接至渦輪分子泵的前級(jí)真空或中間級(jí)泵，這取決于有關(guān)的壓力范圍現(xiàn)在將測(cè)試氣體噴射到來自外部的試樣上，并連同周圍空氣一起通過泄漏滲入試樣中。殘余氣體中的測(cè)試氣體通過渦輪分子泵經(jīng)由閥（3）和（6）向泵送方向相反的方向流動(dòng)，流入質(zhì)譜儀單元，并在這被檢測(cè)出來?？諝夂洼p型測(cè)試氣體氦不同的壓縮比（相差10的多個(gè)冪）用于此目的。雖然渦輪分子泵的高壓縮比保持空氣遠(yuǎn)離質(zhì)譜儀，但輕型氣體以相對(duì)較高的分壓抵達(dá)這里。渦輪分子泵從而充當(dāng)氦和氫的選擇性過濾器。這就是為什么即使在壓力lt，10hPa（對(duì)于某些設(shè)備來說稍高）時(shí)質(zhì)譜儀也能夠檢測(cè)出試樣中的氦和氫的緣故。10的幾次冪的氦分壓以及在1和10-9Pam3s-1之間的逆流中泄漏率可通過高真空泵（4）中各個(gè)中間級(jí)泵以及在以指數(shù)影響壓縮比的不同速度運(yùn)行它的方式來涵蓋。必須在泄漏探測(cè)器z*高靈敏階段主流中的試樣和探測(cè)器中實(shí)現(xiàn)10-2hPa幾次冪范圍中的壓力（通過閥（4）進(jìn)氣）。由于上游渦輪分子泵，質(zhì)譜儀總是在非常低的總壓下工作，從而得到很好的保護(hù)，免受污染和破壞。。
碳硫儀 微量氧分析儀的原電池是易耗品當(dāng)樣品氣中氧含量過高時(shí)應(yīng)迅速切斷儀器的進(jìn)出閥若儀器長(zhǎng)期不使用應(yīng)考慮將一純度較高的氬氣通入儀器作保護(hù)氣但要注意保護(hù)氣的壓力不應(yīng)大于10KPa否則產(chǎn)生的背壓過大易將原電池膜損壞。
光譜儀多年來紅外碳硫分析儀檢測(cè)系統(tǒng)不穩(wěn)定因素一直是困擾許多用戶的難題，為此總結(jié)一些不穩(wěn)定因素的原因，以供大家參考：1、工作電源檢測(cè)系統(tǒng)工作電源有±15V，5.5V，24V，5V，它是保證檢測(cè)系統(tǒng)正常工作的先決條件，這部分電路工作狀況及輸出值不正常的原因?yàn)椋海?）部分器件老化，造成輸出值不穩(wěn)定，紋波大正常情況電源輸出允許波動(dòng)范圍應(yīng)在±10%內(nèi)，若超出范圍視為不正常。（2）部分器件損壞無輸出或輸出波形不對(duì)。通過測(cè)量電路中主要工作點(diǎn)電壓與正常值進(jìn)行對(duì)比，可找出損壞元件。2、紅外光源紅外光源發(fā)射的紅外輻射與光輻射功率成正比。光輻射功率變化直接影響到信號(hào)輸出大小的變化，這樣的變化將引起檢測(cè)器基線的變化，即紅外輻射有無或大小，檢測(cè)器基線將隨之反映出來。引起紅外光源輻射信號(hào)變化的原因有以下幾種：（1）光源逐漸老化，光輻射減弱，信號(hào)輸出低。碳和硫檢測(cè)器的基線輸出值也會(huì)逐漸降低，當(dāng)?shù)陀谡７秶鷷r(shí)儀器將報(bào)警。（2）光源加熱絲斷裂或脫焊，無信號(hào)輸出。測(cè)量光源加熱絲電阻值是否正確（正確值一般為5Q左右）。（3）光源加熱絲虛焊及電源插頭氧化導(dǎo)致接觸不良。
高頻紅外碳硫分析儀 避免電磁場(chǎng)等的電氣干擾，分析系統(tǒng)的正確可靠的接地是必不可少的 16安裝傾斜的影響（plusmn，１％ＦＳ）對(duì)流動(dòng)性使用的儀器影響大?！ ?yīng)垂直安裝（plusmn，１deg，），并重新校準(zhǔn)儀器?！ ?7空氣流速的影響（plusmn，１％ＦＳ） 空氣流速le，0.5m/s實(shí)際上應(yīng)有避免風(fēng)吹的防護(hù)。 18機(jī)械振動(dòng)的影響（plusmn，0.5％ＦＳ） 安裝環(huán)境的震動(dòng)盡可能小，對(duì)磁力機(jī)械式氧分析器的影響大。 19電源電壓變化的影響（plusmn，0.5％ＦＳ） 現(xiàn)場(chǎng)電壓很可能超過220Vplusmn，22V的要求。 20電源頻率變化的影響（plusmn，0.5％ＦＳ） 現(xiàn)場(chǎng)電源頻率很容易超過５０Ｈzplusmn，0.5Ｈz的要求，而且交流失真也可能超過le，0.05的限制，特別對(duì)有調(diào)制電機(jī)的儀器（如紅外）影響大，甚至造成儀器失效的嚴(yán)重故障?！ ?1環(huán)境溫度變化的影響（plusmn，１.5％ＦＳ） 安裝環(huán)境避免高溫，超過４０℃時(shí)恒溫控制失效而使儀器漂移劇增，使儀器失效。儀器的有效防護(hù)可減少風(fēng)速和大氣溫度變化等因素的影響?！ ?2電磁兼容 靜電放電抗擾度、射頻電磁場(chǎng)輻射抗干擾度、電快速瞬變脈沖群抗擾度等三項(xiàng)。 23運(yùn)輸和儲(chǔ)存 高溫、低溫，交變濕度熱，傾斜跌落等。
工業(yè)分析儀氨氮在線分析儀適用于生活污水、工業(yè)污染源、地表水中氨氮含量的測(cè)量氨氮是指水中以游離氨（NH3）和銨離子（NH4）形式存在的氮。動(dòng)物性有機(jī)物的含氮量一般較植物性有機(jī)物為高。同時(shí)，人畜糞便中含氮有機(jī)物很不穩(wěn)定，容易分解成氨。因此，水中氨氮含量增高時(shí)指以氨或銨離子形式存在的化合氨。氨氮在線分析儀就是安裝于特定位置的污染源，24小時(shí)連續(xù)不間斷地對(duì)污染源進(jìn)行氨氮分析的儀器。氨氮在線分析儀在pH值大于11的環(huán)境下，銨根離子向氨轉(zhuǎn)變，氨通過氨敏電極的疏水膜轉(zhuǎn)移，造成氨敏電極的電動(dòng)勢(shì)的變化，儀器根據(jù)電動(dòng)勢(shì)的變化測(cè)量出氨氮的濃度。氨氮在線分析儀的操作步驟：1、用新的水樣沖洗測(cè)量水樣、試劑體積的容器和電極安裝管。2、使用蠕動(dòng)泵進(jìn)樣。水樣并不直接與蠕動(dòng)泵管接觸--有一個(gè)空氣緩沖區(qū)。進(jìn)樣的體積由一可視測(cè)量系統(tǒng)控制。
采用標(biāo)準(zhǔn)工藝流程在電弧爐rarr，鋼包爐rarr，VDrarr，鋼包爐以及必須在真空處理前除渣作為VD脫氣裝置內(nèi)處理鋼水的基本工藝流程處理時(shí)鋼水吹A(chǔ)r，裸露鋼液面。用VD裝置處理鋼水后，為了屏敝電弧用鋼包爐加熱鋼水時(shí)加入了300～400kg石灰和80～100kg螢石。按照電弧爐rarr，VDrarr，鋼包爐工藝流程處理鋼水作為保證連鑄系統(tǒng)的儲(chǔ)備工藝。真空處理后調(diào)整鋼的化學(xué)成份和在鋼包爐內(nèi)造渣。將冶煉爐次轉(zhuǎn)至連鑄機(jī)前鋼中的平均氫含量為2.0和2.1ppm與工藝流程相一致。根據(jù)盛鋼桶從煉鋼到VD和從VD到盛鋼桶的重新布置時(shí)間，扒渣時(shí)間，VD裝置中處理鋼水的平均時(shí)間相當(dāng)于工藝流程的63min和48min。真空處理時(shí)（根據(jù)澆鑄包重新布置和扒渣時(shí)間）鋼水溫度下降為70～80℃。 對(duì)于VD真空裝置中鋼水脫氣條件而言，動(dòng)力學(xué)方程如下： 對(duì)于調(diào)質(zhì)鋼：ln（［H］/［H0］）=－0.028t－0.004 對(duì)于合金化鋼：ln（［H］/［H0］）=－0.041t－0.011 根據(jù)動(dòng)力學(xué)方程，全部條件RH真空裝置下的脫氣反應(yīng)速度系數(shù)明顯高于VD鋼包真空裝置。 此外，研究表明，加入0kg石灰和40kg螢石導(dǎo)致氫含量增加1ppm，而喂入硅鈣包芯絲則導(dǎo)致其增加0.51ppm。根據(jù)獲取數(shù)據(jù)比較了鋼中氫含量增長(zhǎng)與加入鐵合金數(shù)量關(guān)系的經(jīng)驗(yàn)方程：ln（［H］/［H0］）=－0.0003m－0.027式中［H］和［H0］mdash，相應(yīng)為加入鐵合金前后鋼中的氫含量（ppm）。
2、要注意氣體氣體對(duì)儀器檢測(cè)的干擾我們?cè)跈z測(cè)氣體泄漏時(shí)通常使用單一氣體分析儀去檢測(cè)某一種特定的氣體，但檢測(cè)環(huán)境中往往不只是存在一種氣體，因此我們要注意其他氣體是否會(huì)對(duì)儀器的檢測(cè)造成干擾使檢測(cè)結(jié)果不準(zhǔn)確3、要注意氣體分析儀檢測(cè)的濃度范圍在檢測(cè)之前，除了要事先根據(jù)經(jīng)驗(yàn)估算有毒有害氣體的種類，還要大概估測(cè)一下氣體濃度，通過氣體分析儀設(shè)定報(bào)警值進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)氣體濃度超出儀器檢測(cè)范圍時(shí)，要關(guān)閉分析儀，氣體分析儀長(zhǎng)時(shí)間處于超量程的檢測(cè)狀態(tài)下會(huì)使儀器造成嚴(yán)重?fù)p害，會(huì)致使其檢測(cè)不準(zhǔn)確或直接報(bào)廢。4、要注意儀器的保養(yǎng)氣體分析儀同其他設(shè)備一樣，也要注意定期的保養(yǎng)，要對(duì)其進(jìn)行不定時(shí)的校準(zhǔn)和檢測(cè)，存放在較低溫度的環(huán)境中，延長(zhǎng)其使用壽命。。
氣體分析儀，測(cè)量氣體成分的流程分析儀表在很多生產(chǎn)過程中，特別是在存在化學(xué)反應(yīng)的生產(chǎn)過程中，僅僅根據(jù)溫度、壓力、流量等物理參數(shù)進(jìn)行自動(dòng)控制常常是不夠的。由于被分析氣體的千差萬別和分析原理的多種多樣，氣體分析儀的種類繁多。常用的有熱導(dǎo)式氣體分析儀、電化學(xué)式氣體分析儀和紅外線吸收式分析儀等。氣體分析儀需要提供純凈氮?dú)馇逑磧x器的氣室和減小噪音，確保儀器的最大穩(wěn)定性。頂空氣體分析儀器用于密封包裝袋、瓶、罐等包裝件內(nèi)氧氣、二氧化碳?xì)怏w含量、混合比例的測(cè)定；適合在生產(chǎn)線、倉庫、實(shí)驗(yàn)室內(nèi)等場(chǎng)合快速準(zhǔn)確地對(duì)包裝件內(nèi)的氣體組分含量與比例做出評(píng)價(jià)，從而指導(dǎo)生產(chǎn)，保證產(chǎn)品貨架期得以實(shí)現(xiàn)。氣體檢測(cè)儀是一種氣體泄露濃度檢測(cè)的儀器儀表工具，主要是指手持式/固定式氣體檢測(cè)儀。主要利用氣體傳感器來檢測(cè)環(huán)境中存在的氣體種類。氣體檢測(cè)儀廣泛應(yīng)用在石化、煤炭、冶金、化工、市政燃?xì)?、環(huán)境監(jiān)測(cè)等多種場(chǎng)所現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)。可以實(shí)現(xiàn)特殊場(chǎng)合測(cè)量需要；可對(duì)坑道、管道、罐體、密閉空間等進(jìn)行氣體濃度探測(cè)或泄漏探測(cè)。。
如果C用于指定系統(tǒng)的整體電容，且Q用于指定電源電路的質(zhì)量因數(shù)，則所需的RF功率會(huì)增加公式6-11：RF功率具有高功率f和r0場(chǎng)半徑r0的放大將將減少所發(fā)生的相對(duì)機(jī)械公差，從而產(chǎn)生改善的行為。實(shí)質(zhì)上，選擇的f0和r0盡可能的大是有利的。然而，根據(jù)Fomula6-11，由于RF功率相應(yīng)增加，這是有限制的。雖然延長(zhǎng)桿系統(tǒng)允許較低的操作頻率，生產(chǎn)單位的尺寸應(yīng)該不超過一定的實(shí)際尺寸。所需質(zhì)量范圍和所需分辨率是由過濾器尺寸和所選操作頻率來約束的。具有6、8和16mm桿直徑的設(shè)備和適當(dāng)匹配的電子可用于滿足大多數(shù)要求。以下是有關(guān)分辨率和機(jī)械精度之間的關(guān)系的一部分簡(jiǎn)要介紹。讓我們考慮在穩(wěn)定性圖表頂點(diǎn)工作的四級(jí)桿質(zhì)量過濾器；即具有高分辨率。以下方程公式6-8：適用于直流振幅，公式6-9適用于直流振幅。在這里，M表示離子質(zhì)量，r0表示場(chǎng)半徑，f表示過濾器工作的頻率。
根據(jù)多年來積累的工作經(jīng)驗(yàn)，具體應(yīng)用時(shí)應(yīng)考慮以下幾點(diǎn)（1）弄清所要監(jiān)測(cè)的裝置有哪些可能泄漏點(diǎn)，分析它們的泄漏壓力、方向等因素，并畫出探頭位置分布圖，根據(jù)泄漏的嚴(yán)重程度分成Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ三種等級(jí)。（2）根據(jù)所在場(chǎng)所的氣流方向、風(fēng)向等具體因素，判斷當(dāng)發(fā)生大量泄漏時(shí)，可燃?xì)怏w的泄漏方向。（3）根據(jù)泄漏氣體的密度（大于或小于空氣），結(jié)合空氣流動(dòng)趨勢(shì)，綜合成泄漏的立體流動(dòng)趨勢(shì)圖，并在其流動(dòng)的下游位置作出初始設(shè)點(diǎn)方案。綜合這些狀況，擬定出最終設(shè)點(diǎn)方案。這樣，需要購置的數(shù)量和品種即可估算出來。（4）對(duì)于存在較大可燃?xì)怏w泄漏的場(chǎng)所，根據(jù)有關(guān)規(guī)定每相距10—20m應(yīng)設(shè)一個(gè)檢測(cè)點(diǎn)。（5）對(duì)于無人值班的小型且不連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的泵房，需要注意發(fā)生可燃?xì)怏w泄漏的可能性，一般應(yīng)在下風(fēng)口安裝一臺(tái)檢測(cè)器。（6）對(duì)于有氫氣泄漏的場(chǎng)所，應(yīng)將檢測(cè)器安裝在泄漏點(diǎn)上方平面。（7）對(duì)于氣體密度大于空氣的介質(zhì)，應(yīng)將檢測(cè)器安裝在低于泄漏點(diǎn)的下方面上，并注意周圍環(huán)境特點(diǎn)。對(duì)于容易積聚可燃?xì)怏w的場(chǎng)所應(yīng)特別注意安全監(jiān)測(cè)點(diǎn)的設(shè)定。
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